第188章 极紫外光源研制成功了(3/4)
徐华应了一声。>
春城,长光电所>
陈所长此刻正愁着怎么改进光刻机呢。>
虽然之前已经通过花为的牵线搭桥和燧人科技搭上了,主要是合作改造现有光刻机。>
而这个改造的光刻机主要是28nm的光刻机,因为现在国内的光刻机也只能勉强达到28nm工艺。>
据魔都微电子透露,明年他们有望交付首台国产28纳米工艺浸没式光刻机。>
算是在刚好迈在高端光刻领域的门槛,也就是现在国内的光刻科技水平还停留在中端水平。>
根据光刻机工艺水平,光刻机主要划分为超高端、高端、中端、低端四个层次。>
首先,光源13.5nm、节点5nm/7nm的光刻机是处于超高端层次的,全球只有这一家公司可以组装制造。>
其次,光源r 浸入式,节点在7~28nm处于高端层次的。>
最后,光源r/r/-ine,且节点是65nm 或90nm 的,分别处于中端、低端层次。>
注意,这里的r/r指的是深紫外光刻光源。>
想要制作更好的的芯片,那就得造出更好的光源,比如极紫外光源()。>
即使是这种r 28nm光刻机和公司最先进的5nm光刻机工艺有着天壤之别。>
但是也能将国内的光刻水平提升到世界先进水平,完全可以满足常见的射频芯片、蓝牙芯片、功放芯片、电器的驱动芯片等绝大部分逻辑芯片的要求,以及大部分数字芯片的要求。>
陈所长也听说三桑目前正在研究3nm芯片工艺的光刻机,也许很多人都以为很厉害,但是对于他这种业界的人自然知道其中的道道。>
现在的7nm或5nm芯片,不是从前的含义,最准确的是牙膏厂的命名,只是它也学坏了。>
芯片的纳米制程并不是真的几纳米,更多是一种更新迭代的说法。>
上一代可能是4nm,下一代根据摩尔定律乘以根号7,差不多3nm。>
以前的制程是指晶体管的宽度,现在则是晶体管的沟道宽度,就出了这种个位数的纳米制程。>
就像目前三桑研究的3nm光刻机,由于极紫外光刻技术受到光电效应的影响,可能其实际线精度在十几纳米或20纳米。>
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